製品名: フッ化エルビウム
製品愛称：フッ化エルビウム結晶、三フッ化エルビウム、無水フッ化エルビウム、高密度無水フッ化エルビウム
化学式: ErF3
CAS 番号: 13760-83-3
EINECS 番号: 237-356-3
純度: 3N/4N/5N
外観: ローズレッドクリスタルパウダー
分子量：224.25
融点: 1350度
沸点：2200度
密度: 7.814 g/cm3
溶解性：水、塩酸、硝酸、硫酸に不溶、過塩素酸には可溶
製造標準: XB/T 240-2023
包装：プラスチックボトルに入れ、ビニール袋で裏打ちし、保護のため、または顧客の要件に従ってアルゴンガスを充填します。
フッ化エルビウムの調製方法：
1. 湿式法による準備:
フッ酸沈殿・真空脱水法。 塩化エルビウムまたは硝酸エルビウムに過剰のフッ化水素酸を加え、水溶液を蒸発、濃縮、冷却し、水浴上で結晶化させて三フッ化エルビウム水和物を調製する。 次に、真空中で加熱して結晶水を除去します。
二フッ化アンモニウムフッ素化法、３．
3. 乾燥準備:
無水フッ化水素ガスと希土類酸化物との反応により生成されます。
フッ化エルビウムの用途:
光学コーティング、光ファイバードーピング、レーザー結晶、単結晶原料、レーザー増幅器、触媒添加剤、金属エルビウムや合金の調製などに使用されます。
フッ化エルビウム薄膜結晶
宇宙光学、光通信、分光計、レーザーおよびその他の大型光学システムにおいて、光学フィルムおよびデバイスの役割は非常に重要です。 同時に、これらの分野の応用では、光学薄膜の光学的、物理的、化学的特性に対する多くの厳しい要件も提示されています。 例えば、光学特性において、コーティング材料は、適切な分光透過範囲および屈折率を有し、透過範囲における吸収が十分に小さいことが要求される。 機械的および化学的安定性の観点から、コーティング材料には安定した機械的特性、環境変化の影響を受けにくいこと、内部応力が低く、内部欠陥が少ないことが求められます。 現在使用されている赤外光学薄膜材料では上記の要求を満足できる材料は限られており、特に長波長赤外領域では安定した低屈折率薄膜材料が少ない。
フッ化希土類は、真空紫外から遠赤外領域まで透明性に優れた材料です。 真空紫外領域ではフッ化希土類は紫外薄膜デバイスの高屈折率層として使用でき、遠赤外領域ではフッ化希土類は赤外薄膜デバイスの低屈折率層としても使用できます。 近年、真空紫外光学薄膜デバイスへの希土類フッ化物の応用が多くの研究者の注目を集めています。
フッ化エルビウムはランタニド重希土類フッ化物に属します。 Pisarska の研究では、フッ化エルビウム ガラスの赤外線カットオフ波長は 21.74 ±0.05 μ m に達し、他のフッ化物ガラスよりもはるかに高いことが示されています。 結果は、フッ化エルビウムが潜在的な長波赤外の低屈折率透明材料であることを示している。
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